对场效应管工作原理的理解

发布 2019-05-23 14:00:40 阅读 2491

如何理解场效应管的原理,大多数书籍和文章都讲的晦涩难懂,给初学的人学习造成很大的难度,要深入学习就越感到困难,本人以自己的理解加以解释,希望对初学的人有帮助,即使认识可能不是很正确,但对学习肯定有很大的帮助。

场效应管的结构。

场效应管是电压控制器件,功耗比较低。而三极管是电流控制器件,功耗比较高。但场效应管制作工艺比三极管复杂,不过可以做得很小,到纳米级大小。

所以在大规模集成电路小信号处理方面得到广泛的应用。对大电流功率器件处理比较困难,不过目前已经有双场效应管结构增加电流负载能力,也有大功率场管出现,大有取代三极管的趋势。场效应管具有很多比三极管优越的性能。

结型场效应管的结构。

结型场效应管又叫jfet,只有耗尽型。

这里以n沟道结型场效应管为例,说明结型场效应管的结构及基本工作原理。图为n沟道结型场效应管的结构示意图。在一块n型硅,材料(沟道)上引出两个电极,分别为源极(s)和漏极(d)。

在它的两边各附一小片p型材料并引出一个电极,称为栅极(g)。这样在沟道和栅极间便形成了两个pn结。当栅极开路时,沟道相当于一个电阻,其阻值随型号而不同,一般为数百欧至数千欧。

如果在漏极及源极之间加上电压uds,就有电流流过,id将随uds的增大而增大。如果给管子加上负偏差ugs时,pn结形成空间电荷区,其载流子很少,因而也叫耗尽区(如图a中阴影区所示)。其性能类似于绝缘体,反向偏压越大,耗尽区越宽,沟道电阻就越大,电流减小,甚至完全截止。

这样就达到了利用反向偏压所产生的电场来控制n型硅片(沟道)中的电流大小的目的。

注:实际上沟道的掺杂浓度非常小,导电能力比较低,所以有几百到几千欧导通电阻。而且是pn结工作在反向偏置的状态。刚开机时,如果负偏置没有加上,此时id是最大的。

特点:1,gs和gd有二极管特性,正向导通,反向电阻很大。

2:ds也是导通特性,阻抗比较大。

3:gs工作在反向偏置的状态。

4:ds极完全对称,可以反用,即d当做s,s当做d。

从以上介绍的情况看,可以把场效应管与一般半导体三极管加以对比,即栅极相当于基极,源极相当于发射极,漏极相当于集电极。如果把硅片做成p型,而栅极做成n型,则成为p沟道结型场效应管。结型场效应管的符号如图b所示。

符号:箭头的方向仍然是pn结正向导通的方向。

绝缘栅场效应管mosfet

结型虽然电压控制方式,但是仍然有少子的飘移形成电流。绝缘栅场效应管是栅极与衬底完全绝缘,所以叫绝缘栅场效应管。

绝缘栅型场效应晶体管在集成电路中被广泛使用,绝缘栅场效应晶体管(mosfet)分为增强型和耗尽型两大类,每类中又有n沟道和p沟道之分,n沟道又叫pmos管,p沟道又叫nmos管。不象双极型晶体管只有npn和pnp两类,场效应晶体管的种类要多一些。但是它们的工作原理基本相同,所以下面以增强型n沟道场效应晶体管为例来加以说明。

绝缘栅型场效应三极管mosfet( metal oxide semiconductor fet)。分为。

增强型 n沟道、p沟道

耗尽型 n沟道、p沟道。

n沟道增强型mosfet的结构示意图和符号见图4.1。其中:

d(drain)为漏极,相当c;

g(gate)为栅极,相当b;

s(source)为源极,相当e。

衬底断开是是指两个n区没有相连。如果两个相连,靠改变沟道的宽度来控制电流就是耗尽型)

制作过程:取一块p型半导体作为衬底,用b表示。 用氧化工艺生成一层sio2 薄膜绝缘层。

然后用光刻工艺腐蚀出两个孔扩散两个高掺杂的n型区。从而形成两个pn结。(绿色部分)

从n型区引出电极,一个是漏极d,一个是源极s在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极g。

n沟道增强型mosfet的符号如图所示。左面的一个衬底在内部与源极相连,右面的一个没有连接,使用时需要在外部连接。

衬底在内部与源极相连,所以绝缘栅mosfet的d、s极是不能互换的。箭头的方向仍然是衬底和s极和d极的pn结方向,而栅极没有半导体,只是电容器的一个极板。而结型的箭头是栅极向s极和d极的pn结方向,这就是为什么同样是n沟道,结型和绝缘栅型的箭头方向相反。

)2 n沟道增强型mosfet的工作原理。

对n沟道增强型mos场效应三极管的工作原理,分两个方面进行讨论,一是栅源电压ugs对沟道会产生影响,二是漏源电压uds也会对沟道产生影响,从而对输出电流,即漏极电流id产生影响。

1).栅源电压ugs的控制作用

先令漏源电压uds=0,加入栅源电压ugs以后并不断增加。

ugs带给栅极正电荷,会将正对sio2层的表面下的衬底中的空穴推走,从而形成一层负离子层,即耗尽层,用绿色的区域表示。

注:耗尽层的载流子减少,导电能力变差)

同时会在栅极下的表层感生一定的电子电荷,若电子数量较多,从而在漏源之间可形成导电沟道。

显然改变ugs就会改变沟道,从而影响id ,这说明ugs对id的控制作用。

当ugs较小时,不能形成有效的沟道,尽管加有uds ,也不能形成id 。当增加ugs,使id刚刚出现时,对应的ugs称为开启电压,用ugs(th)或ut表示。

沟道中的电子和p型衬底的多子导电性质相反,称为反型层。此时若加上uds ,就会有漏极电流id产生。

2).漏源电压uds的控制作用

设ugs>ugs(th),增加uds,此时沟道的变化如下。

显然漏源电压会对沟道产生影响,因为源极和衬底相连接,所以加入uds后, uds将沿漏到源逐渐降落在沟道内,漏极和衬底之间反偏最大,pn结的宽度最大。所以加入uds后,在漏源之间会形成一个倾斜的pn结区,从而影响沟道的导电性。

当uds进一步增加时, id会不断增加,同时,漏端的耗尽层上移,会在漏端出现夹断,这种状态称为预夹断。

当uds进一步增加时, 漏端的耗尽层向源极伸展,此时id基本不再增加,增加的uds基本上降落在夹断区。

3 n沟道增强型mosfet的特性曲线。

n沟道增强型mosfet的转移特性曲线有两条,转移特性曲线和漏极输出特性曲线。

1)转移特性曲线

n沟道增强型mosfet的转移特性曲线如左图所示,它是说明栅源电压ugs对漏极电流id的控制关系,可用这个关系式来表达,这条特性曲线称为转移特性曲线。

转移特性曲线的斜率gm反映了栅源电压对漏极电流的控制作用。 gm称为跨导。这是场效应三极管的一个重要参数。

单位ms(ma/v)

2)漏极输出特性曲线。

当ugs>ugs(th),且固定为某一值时,反映uds对id的影响,即id=f(uds)ugs=const这一关系曲线称为漏极漏极输出特性曲线。

场效应三极管作为放大元件使用时,是工作在漏极输出特性曲线水平段的恒流区,从曲线上可以看出uds对id的影响很小。但是改变ugs可以明显改变漏极电流id,这就意味着输入电压对输出电流的控制作用。

曲线分五个区域:

1)可变电阻区。

2)恒流区(放大区)

3)截止区。

4)击穿区。

5)过损耗区。

从漏极输出特性曲线可以得到转移特性曲线,过程如下:

4 n沟道耗尽型mosfet

n沟道耗尽型mosfet的结构和符号如下图所示,它是在栅极下方的sio2绝缘层中掺入了一定量的正离子。所以当ugs=0时,这些正离子已经感生出电子形成导电沟道。于是,只要有漏源电压,就有漏极电流存在。

当ugs=0时,对应的漏极电流用idss表示。当ugs>0时,将使id进一步增加。(注:正电压使导电层导电能力增强。)

ugs<0时,随着ugs的减小漏极电流逐渐减小,直至id=0。对应id=0的ugs称为夹断电压,用符号ugs(off)表示,有时也用up表示。n沟道耗尽型mosfet的转移特性曲线如上图所示。

p沟道增强型mosfet的结构和工作原理。

p沟道mosfet的工作原理与n沟道mosfet完全相同,只不过导电的载流子不同,供电电压极性不同而已。这如同双极型三极管有npn型和pnp型一样。

这都是从讲的比较好的文章中摘录下来的,结型的管子道理好理解,而mos管,大多数的讲解都如此,不能让人理解。

首先我们看一下太阳能电池,太阳能电池实际就是一个pn结。由于pn结的掺杂性,会在内部形成一个电势差。通常正向导通需要0.

4~0.7伏的电压就是克服内电场的。硅管和锗管的电压不同。

而反接的时候,在没有击穿的时候,相当于一个电容器,充满电就不能导电了。变容二极管就是这种运用。

而在太阳能电池里面,pn结是当电池使用,在电池的外部,p区的电子会通过电阻到n区和正电荷中和,这种作用会使pn结电压降低。而扩散又会使pn结的电压升高。当达到平衡时,会形成恒定的电流。

从能量的角度,pn结从外面吸收能量,转化为电能,电能又通过电阻转化为热能。

下面我们来看场管的工作原理。

当场管没有加任何电压时,d极和s极有两个完全相同的pn结,这时n区的电势会比p区高,当,场管在内部把s极和衬底相连时,pn结绝对不会消失,因为pn结电压很小,实际测量只有几毫伏。这时导线可以看成一个小电阻,不能忽略。但可以使pn结电压降低,此时d、s两极的pn结宽度已经不相等了,而且s极宽度较小。

当给s极和g极加上正向电压的时候,p材料和n材料就和g极构成一个电容器,由于充电效应,栅极带正电,下面相对的n型和p型材料表面就构成另一个极板,都带负电,这样整个表面就成了一个等势面。从而使两个n连在一起了。

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