薄膜物理复习

发布 2022-06-24 20:00:28 阅读 7639

并没有那么全。平时做的作业题很重要,看的话以ppt为主,书就可以少看。总之大家还是要好好复习,,毕竟学习不仅仅是为了考试!!!

第一章。1.气体的压力和气体分子的平均自由程(公式)(填空题)2.气体的流动状态(流动状态分类(克努森常数kn))

3.真空泵(有些泵需要前级泵,如油扩散泵、涡轮分子,机械真空泵做前级泵)第二章。

的中英文全称,概念,原理特点。

2.电子束蒸发(e-beam)和激光蒸发(可能有填空)3.薄膜沉积的方向性和阴影效应(填空)4.蒸发沉积膜厚分布计算(点蒸发源)(这个是重点,计算题)第三章。

1.分子束外延(mbe)(概念、特点,三种生长模式)2.气体放电现象(汤生放电、辉光放电、弧光放电)(书上49页的图)

3.等离子体鞘层形成的原因、靶中毒现象、溅射中的自偏压效应(填空或简答)4.补充知识不考第四章。

中英文全称,概念,特点。

涉及的化学反应类型(中英文)3.化学反应中的吉布斯自由能的变化。

4.几种不同的cvd装置(重点是mocvd)必考)(全称、原理、特点)5.等离子体化学气相沉积(重点,简答题)第五章。

1.了解薄膜生长过程2.自发形核和非自发形核(沉积速率和衬底温度对形核过程的影响(作业题)(作业为主,ppt重点看)

3.薄膜的四种典型组织形态(填空)

4.典型的形成非晶薄膜的元素有哪些(填空)第六章(超重点)

1.薄膜厚度的测量(填空、选择)

2结构表征方法(sem、tem重点掌握)

1)sem、tem原理、特点、用途(作业题)3成分表征方法(xps(x射线光电子能谱)、aes(俄歇电子能谱))(1)xps概念、原理(光电效应)、应用。

2)aes概念、原理等(俄歇过程至少有两个能级和三个电子参与)4.其他表征方法了解一下。

第七章不考。

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